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闡述等離子鍍膜設(shè)備的使用所具備的優(yōu)勢

更新時間:2017-10-11      點擊次數(shù):1433
  等離子鍍膜設(shè)備是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗幫手。

等離子鍍膜設(shè)備


  等離子鍍膜設(shè)備優(yōu)勢:
  1、AF噴涂設(shè)備采用原裝德國進口納米噴頭,噴頭采用高低壓轉(zhuǎn)換霧化設(shè)計,使液態(tài)分子極精細(xì),且不影響藥水效果;
  2、鋨存儲器可拆卸:具有密封式結(jié)構(gòu),可冷凍保存;
  3、理論設(shè)計產(chǎn)能3000片-4000片/小時;
  4、噴嘴運動速度及輸送線速度均可調(diào),極大的提高生產(chǎn)效率,滿足各種用戶需求;
  5、控制噴涂藥量,提高藥水的霧化能力,使膜層與玻璃能均勻的結(jié)合,提高產(chǎn)品噴涂的均勻性,增大膜層表面爽滑度;
  6、采用雙等離子處理, 鍍膜前對工件進行清潔處理, 降低工件本身附帶的雜質(zhì),使玻璃表面與膜層發(fā)生附和反應(yīng),提高膜層結(jié)合的牢固度,提升產(chǎn)品的抗老化以及耐摩擦能力,使鍍膜品質(zhì)更高;
  7、自動化控制,鍍膜時只需設(shè)定薄膜厚度,鍍膜過程自動完成;
  8、恒定流量控制系統(tǒng),保證藥水平穩(wěn)恒定的供流,而非波浪線式供流,解決白霧現(xiàn)象;
  9、鍍膜時間短:只需幾秒鐘膜厚就可以達到納米級;
  10、裝有互鎖回路:一但 OsO4 氣體進入腔體,真空不達標(biāo),腔體就無法打開。

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